名片曝光使用说明

步骤1:创建名片

微信扫描名片二维码,进入虎易名片小程序,使用微信授权登录并创建您的名片。

步骤2:投放名片

创建名片成功后,将投放名片至该产品“同类优质商家”栏目下,即开启名片曝光服务,服务费用为:1虎币/天。(虎币充值比率:1虎币=1.00人民币)

关于曝光服务

名片曝光只限于使用免费模板的企业产品详细页下,因此当企业使用收费模板时,曝光服务将自动失效,并停止扣除服务费。

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德国SENTECH公司PECVD 气相沉积系统---上海/苏州/无锡/南京/天津/北京/武汉/西安/杭州/济南/广州 SENTECH仪器(德国)有限公司研发、制造和销售先进的薄膜测量仪器(光谱椭偏仪、激光椭偏仪、反射膜厚仪)、光伏测量仪器(在线和离线测量工具)和等离子工艺设备(等离子刻蚀机、等离子沉积系统、原子层沉积系统、用户定制多腔系统)。 仪器广泛应用于微电子、光电、纳米技术、LED、平板显示、材料、有机电子、光伏、玻璃镀膜、生物学、生命科学、等研发领域。 NOVTEC寓意“科技创新”,即诺威特测控科技有限公司,在德国、日本设有代表处,多年来致力于将的高科技产品带给中国及亚洲的广大用户,并为客户提供完善的售后服务,协助他们提高生产技术水平、竞争力及增加盈利,从事工业测量与测试产品的销售与研发,拥有产品研发中心、研究院和生产工厂,技术力量雄厚。 产品简介 SI500D突出优点是采用平板三螺旋天线PTSA电感耦合等离子体ICP源和背部有氧气冷却系统的下电极,较大样片直径8吋。ICPECVD感应耦合等离子增强化学气相沉积系统SI500D满足高端工艺要求,适用于器材的生产和研发应用。SI500D在基于硅烷的沉积工艺中具有出色的性能。 SI500PPD是标准的PECVD系统,配置带干泵的预真空室,真空反应腔配置罗茨泵和涡轮分子泵。 Depolad200是经济型的PECVD系统,具有模块化设计、工艺灵活和操作简便的特点,样片直接放置。刻逐步进行真空系统、供气系统的升级,以满足更高的工艺要求。 型号 SI500D ICPECVD沉积系统 室温~350℃ SI500PPD PECVD沉积系统 带预真空室 200℃~350℃ Depolab200 PECVD沉积系统 不带预真空室 200℃~400℃ 具体型号及技术要求欢迎来电咨询。 联系方式: 诺威特测控科技有限公司 Add:中国苏州市高新技术开发区金枫南路198号 联系人:夏雨先生 公众微信推荐: 诺威特光伏(novteccs) 诺威特汽车(novtecqc) 诺威特光电(sznovtec)
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“PECVD 气相沉积系”信息由发布人自行提供,其真实性、合法性由发布人负责。交易汇款需谨慎,请注意调查核实。